Übersicht
Aufgrund der zunehmenden Verwendung elektro-optischer Komponenten, die heute sowohl in der Telekommunikation als auch im Bereich der Displaytechnologien üblich sind, entwickelt sich die Epitaxie immer mehr zu einer Schlüsseltechnik für die Komponentenfertigung. Epitaxie ist das Aufbringen sehr dünner Halbleitermaterialschichten auf die Oberfläche eines Einkristall-Substrats. Jede Kristallschicht wird als Epischicht bezeichnet.

Oberflächenrauheit
Die Oberflächenstruktur ist für Kunden wie für Lieferanten ein überaus wichtiger Parameter bei der Angabe der Qualität epitaxischer Halbleiter. Angesichts des derzeitigen Trends zu noch kleineren Schaltkreisen auf Wafern werden die Rauheitstoleranzen zunehmend enger. Zur Messung der in nm gemessenen Epiwafer-Oberflächenbeschaffenheit muss ein System mit sehr niedrigem Grundrauschen und sehr hoher Auflösung verwendet werden.