Die heute verwendeten Festplatten-, MEMS- und Halbleitergeräte stoßen nicht nur an die Grenzen der derzeitigen Fertigungsprozesse, sondern auch die Grenzen der zu deren Überwachung eingesetzten Messverfahren. Das Ziel immer kleinerer Geometrien mit höherer Bestückung und engeren Toleranzen erfordert die besten Messverfahren für Stufenhöhe, Rauheit und Messungen im Mikro- und Nanometerbereich.

Taylor Hobson entwickelt Lösungen für diese kritischen Messungen in Forschung und Entwicklung sowie auch maßgeschneiderte Fertigungslösungen für Messungen im laufenden Betrieb.

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